シリコン陽極酸化膜の成長挙動に関する研究

シリコン酸化膜とシリコン窒化膜の大規模集積回路への応用に関する研究

化合物および混晶半導体の結晶成長と酸化膜成長に関する研究

走査型トンネル顕微鏡を用いた極薄シリコン酸化膜の形成及び劣化に関する研究

シリコン表面における原子ステップの挙動に関する研究

化学気相成長法によるシリコンならびにシリコンカーバイド結晶成長に関する研究

酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究

誘導結合型水素プラズマによりシリコン酸化膜に導入される損傷に関する基礎的研究

非晶質シリコン薄膜の結晶核形成の動的過程に関する研究

シリコンULSIのための薄膜微細配線及び電極に関する研究

酸化物薄膜の合成に関する研究

ディギャッシングによる陶材焼付用合金酸化膜の色調に関する研究

シリコン結晶中の軽元素不純物の挙動に関する研究 : 酸素が関与する現象を中心として

マンガンおよび鉄酸化物の生成に伴う化学元素の挙動に関する研究

アーク放電蒸着法による酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究

ハイブリッド浴法によるアルミニウムの陽極酸化と電解着色に関する研究

均一な多孔質シリコンの作製に関する研究

セメント層の力学的挙動に関する基礎的研究

層状物質のヘテロエピタキシャル成長に関する研究

半導体ダイヤモンド薄膜の成長と局在準位に関する研究

線対平板電極系における線電極の挙動に関する研究

化合物半導体の溶液成長過程に関する研究

スパッタリング法によるBi系高温超伝導酸化物のエピタキシャル成長に関する研究

コンクリート構造のポストピーク挙動に関する解析的研究

単結晶シリコン表面の再配列構造ならびに初期酸化反応に関する研究