酸化物超伝導薄膜の作製とその輸送特性に関する研究
化合物半導体薄膜の結晶成長と光学的・電気的特性に関する研究
酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究
酸化物超伝導薄膜の磁化特性
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化合物および混晶半導体の結晶成長と酸化膜成長に関する研究
アーク放電蒸着法による酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究
多結晶磁性ガーネット膜の結晶成長機構と光磁気記録特性に関する研究
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酸化物薄膜の合成に関する研究
炭酸基を含む銅系酸化物の合成,結晶構造および超伝導特性に関する研究
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溶融成長法による大型酸化物超伝導体の作製と高臨界電流密度化に関する研究
スクリーン印刷Bi系酸化物超伝導厚膜の微細組織と超伝導特性に関する研究
銅酸化物超伝導体の合成と高Jc化に関する研究
ディップコーティング法による機能性酸化物薄膜の作製に関する研究
超伝導細線の電流-電圧特性に関する研究
プラズマ・レーザプロセスによる酸化物薄膜作製に関する研究
半導体ダイヤモンド薄膜の成長と局在準位に関する研究
タリウム系銅酸化物の結晶構造および超伝導特性の組成依存性
準結晶と近似結晶の電子構造,電子輸送現象および相安定性に関する研究
フラーレン薄膜の電気化学的特性に関する研究
ナノ結晶GaN薄膜の作製と物性評価およびその薄膜トランジスタへの応用
最終更新日:
登録日: 2020-12-17