酸化物薄膜の合成に関する研究

酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究

プラズマ・レーザプロセスによる酸化物薄膜作製に関する研究

ディップコーティング法による機能性酸化物薄膜の作製に関する研究

インジウム-錫-酸化物の薄膜形成技術とその特性に関する研究

銅酸化物超伝導体の合成と高Jc化に関する研究

アーク放電蒸着法による酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究

酸化物超伝導薄膜の作製とその輸送特性に関する研究

溶剤付加CVD法による酸化物系高温超電導薄膜の合成に関する研究

高品質半導体ダイヤモンド薄膜の合成と光物性に関する研究

有機金属化合物薄膜の光化学分類による酸化物超微細構造の形成に関する研究

酸化物高温超伝導薄膜のサブミクロン加工とそのデバイス応用に関する研究

超伝導酸化物Bi[2-x]Pb[x]Sr[2]Ca[2]Cu[3]O[10]の合成に関する研究

酸化物超伝導体薄膜結晶成長と異方的電流輸送特性に関する研究

フラーレン薄膜の電気化学的特性に関する研究

単結晶薄膜によるトンネル陰極の形成に関する研究

光学薄膜のレーザー耐力向上に関する研究

立方晶窒化ホウ素薄膜形成に関する基礎的研究

酸化物超伝導薄膜の磁化特性

レーザ誘起プロセスによる薄膜形成に関する基礎研究

デアザチアテトラヒドロ葉酸類縁体の合成に関する研究

炭酸基を含む銅系酸化物の合成,結晶構造および超伝導特性に関する研究

高温超伝導酸化物の固体物理化学に関する研究

マグネシア-アルミナ系酸化物の耐照射損傷性に関する研究

半導体ダイヤモンド薄膜の成長と局在準位に関する研究