化合物半導体表面の再構成構造に関する研究
化合物半導体の光弾性評価に関する研究
化合物半導体デバイス用ドライプロセス技術に関する研究
高精度実時間半導体レーザ干渉計に関する研究
化合物半導体分子線エピタキシ装置の開発に関する研究
化合物半導体の溶液成長過程に関する研究
超格子半導体によるナノ秒マルチバンチ偏極電子ビームの生成
超高真空一貫プロセスにおける化合物半導体のエッチング過程と再成長界面に関する研究
半導体表面ウェット洗浄技術の高性能化に関する研究
Ⅲ-Ⅴ族化合物半導体ヘテロエピタキシーにおける貫通転位密度の低減および表面の平坦化に関する研究
格子乱流と円柱の干渉に関する研究
半導体量子閉じ込め系における光電流スペクトル機構に関する研究
Ⅱ-Ⅳ族化合物半導体の低温エピタキシャル成長に関する研究
半導体プラズマによるマイクロ波の光制御法に関する研究
アモルファス・カルコゲナイド半導体における可逆光構造変化に関する研究
光波通信用半導体レーザの高性能化に関する研究
赤外線検出素子に用いられるHg[1-x]Cd[x]Te半導体の表面保護に関する研究
超伝導量子干渉素子を用いた磁気信号処理に関する研究
半導体デバイス製造における電子ビーム利用技術の開発に関する研究
半導体デバイスの静電気障害に関する研究
半導体レーザー励起小型固体レーザーに関する研究
放射光励起半導体素子作製プロセスに関する研究
表面電子分光法における表面励起に関する研究
モード同期半導体レーザによる超高速光パルス発生に関する研究
最終更新日:
登録日: 2020-12-17