ダイヤモンドのエピタキシャル成長とその半導体デバイスに関する研究

半導体ダイヤモンド薄膜の成長と局在準位に関する研究

Ⅱ-Ⅳ族化合物半導体の低温エピタキシャル成長に関する研究

半導体デバイスの静電気障害に関する研究

高温超伝導薄膜のエピタキシャル成長とその電子特性に関する研究

高品質半導体ダイヤモンド薄膜の合成と光物性に関する研究

酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究

化合物半導体の溶液成長過程に関する研究

量子サイズ構造半導体デバイスの量子輸送に関する研究

化合物および混晶半導体の結晶成長と酸化膜成長に関する研究

ダイヤモンド気相合成の速度論と結晶成長に関する研究

モンテカルロ・シミュレーションによるエピタキシャル成長過程に関する研究

スパッタリング法によるBi系高温超伝導酸化物のエピタキシャル成長に関する研究

Ⅲ-Ⅴ窒化物半導体の分子線結晶成長と評価に関する研究

半導体デバイス製造における電子ビーム利用技術の開発に関する研究

化合物半導体薄膜の結晶成長と光学的・電気的特性に関する研究

アーク放電蒸着法による酸化物超伝導薄膜のエピタキシャル成長に関する研究

光並列処理およびそのデバイスに関する研究

半導体基板上への常誘電性および強誘電性弗化物薄膜の形成とデバイス応用に関する研究

酸化物高温超伝導薄膜のサブミクロン加工とそのデバイス応用に関する研究

液晶機能デバイスとその光通信への応用に関する研究

化合物半導体デバイス用ドライプロセス技術に関する研究

走査型トンネル顕微鏡を用いた半導体デバイス・プロセス評価の研究

レーザ照射MOMBE法によるⅢ-Ⅴ族化合物半導体の選択成長に関する研究

ダイヤモンドのイオンビーム加工に関する研究